高纯二硼化钛靶材TiB2溅射镀膜蒸发镀膜科研实验纯度99.999%尺寸形状可定制提供背板绑定服务

二硼化钛靶材（Titanium Boride, TiB2）作为一种的磁控溅射靶材材料，在现代材料科学与技术领域扮演着重要角色。其特的物理和化学性质，以及在磁控溅射过程中的表现，使得二硼化钛靶材在多个高科技领域具有广泛的应用前景。以下是对二硼化钛靶材的详细介绍，包括其基本特性、物理性能以及行业应用优势。我司深耕靶材领域十多年，专注研发与生产，铸就行业。公司生产硼化物靶材材料如下：

基本介绍

二硼化钛（TiB2）是一种灰色或灰黑色的粉末状材料，具有六方硼化铝（AlB2）的晶体结构。它是硼和钛形成的稳定的化合物之一，化学式为TiB2，分子量约为69.49（也有资料给出稍有不同的数值，如73.52，这可能是由于计算方法和精度的不同）。二硼化钛靶材具有高熔点、高硬度、良好的耐磨性和耐腐蚀性，这些特性使其在磁控溅射过程中表现出色，能够制备出的薄膜。

物理性能

1、纯度：二硼化钛靶材的纯度对其性能至关重要。高纯度的二硼化钛靶材（通常要求99.9%以上）能够确保溅射薄膜的纯净度和性能稳定性。低杂质含量有助于减少溅射过程中的污染，提高薄膜的均匀性和一致性。高纯度的二硼化钛靶材在制备、高可靠性的薄膜器件方面具有显著优势。

2、密度：二硼化钛靶材的密度约为4.52g/cm³（也有资料给出稍有不同的数值，如4.50g/cm³，这同样可能是由于测量方法和条件的不同）。这一密度特性使得靶材在溅射过程中能够保持良好的机械稳定性和溅射效率。高密度的靶材可以提供更高的沉积效率和更均匀的薄膜，有助于提升终产品的性能。

3、熔点：二硼化钛靶材的熔点，通常在2900℃至3225℃之间。这一特性使得二硼化钛靶材在高温溅射环境中能够保持稳定，不易熔化或变形。因此，在制备需要高温稳定性的薄膜时，二硼化钛靶材具有显著优势。

4、化学成份：二硼化钛靶材的主要化学成份是钛（Ti）和硼（B），以TiB2的形式存在。其化学性质相对稳定，但在某些条件下可能与酸或碱发生反应。因此，在制备和使用过程中需要严格控制环境条件，以避免靶材的化学变化影响溅射薄膜的性能。

行业应用优势

1、导电陶瓷材料：二硼化钛靶材具有的导电性能，是制备导电陶瓷材料的重要原料之一。这些导电陶瓷材料在电子封装、微电子器件等领域中具有广泛应用，如真空镀膜导电蒸发舟的主要原料就是二硼化钛。

2、陶瓷切削刀具及模具：由于二硼化钛具有高硬度和良好的耐磨性，因此它是制造精加工刀具、拉丝模、挤压模、喷砂嘴等陶瓷切削刀具及模具的理想材料。这些刀具和模具在机械加工、金属切割等领域中具有重要作用。

3、复合陶瓷材料：二硼化钛可以作为多元复合材料的重要组元，与TiC、TiN、SiC等材料组成复合材料，制作各种耐高温部件及功能部件。这些复合材料在高温环境、恶劣工况下仍能保持良好的性能，因此在航空航天、军事等领域中具有广泛应用。

4、铝电解槽阴极涂层材料：二硼化钛与金属铝液具有良好的润湿性，因此可以用作铝电解槽阴极涂层材料。这种涂层材料能够降低铝电解槽的耗电量，延长电解槽的使用寿命，从而提高铝电解的生产效率和经济效益。

5、其他领域：此外，二硼化钛靶材还可以用于制作PTC发热陶瓷材料和柔性PTC材料，具有安全、省电、可靠、易加工成型等特点。同时，它也是Al、Fe、Cu等金属材料很好的强化剂，能够显著提高这些金属材料的强度和韧性。

综上所述，二硼化钛靶材以其特的物理性能和广泛的应用前景，在现代材料科学与技术领域展现出了的潜力和价值。随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展，二硼化钛靶材的性能将进一步提升，其应用也将更加广泛和深入。